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半導体産業新聞 サマースクール 2007 Part. III

ビギナーのための半導体/夏講座


これだけは知っておきたい半導体プロセス&装置・クリーン化

両日受講コース

基礎コース 2007年8月29日(水) 09:30〜18:00
総合基本コース 2007年8月30日(木) 09:30〜17:30

  於 明神会館(東京・御茶ノ水)


多数のご参加、ありがとうございました。

 より理解度を深めたい方にお勧めのコースです。特別価格でのご提供とともに、両日それぞれご本人あるいは代理の方が別々にご出席されても構いません。
 特典:ご参加者全員の方に、(社)日本半導体製造装置協会発行の「半導体ができるまで」前工程と後工程の工程図と、弊紙・編集記者陣営が総力を挙げて執筆に取り組んだ、かんき出版発行『これが半導体の全貌だ!』を進呈致します。

■ 講演内容

基礎コース 2007年8月29日(水)

第1部 主要プロセス・装置の基礎講座
09:30〜10:30

半導体を作り込むためのベースとなる「シリコン・ウェハ基板」とは
シリコン・ウェハの役割りと作り方&さらなる大口径化のなぜ

元スーパーシリコン研究所 所長

高田 清司 (たかだ きよし) (09:30〜10:30担当)

10:30〜12:00

回路図を焼き付ける『リソグラフィ工程』の仕組みと様々な手法
マスク・レジスト・現像・アッシングも踏まえて

熱によって薄膜を形成する『熱処理プロセス』
大量に処理するバッチ方式とウェハ一枚づつ処理する枚葉方式

リンやボロンといった不純物を注入する
『イオン注入・アニール工程』

電気を通さないシリコン・ウェハに特定の電気特性を持たせる

平坦面にも凹凸部にも膜を埋め込んでいく『成膜プロセス』
雪が降るように堆積するCVD(Chemical Vapor Deposition)方式と
無数の粒子があられのように降り積もるスパッタリング方式

12:00〜12:50  ランチ+名刺交換会
12:50〜14:00

半導体製造プロセスの有能な細工師『エッチング工程』
微細な形状も自在に加工する

雑巾で床を拭くように『平坦化工程』でウェハ表面を研磨
リソグラフィのためにウェハ表面は常に凹凸なし

敏感で繊細なお肌のために
『洗浄プロセス』でウェハは繰り返し入浴

半導体製造の大敵:ゴミ/超微細なゴミも徹底的に排除する

ナノフロント研究所(元ソニー(株) 半導体プロセス・エンジニア)

佐藤 淳一 (さとう じゅんいち) (10:30〜14:00担当)

第2部 半導体デバイスが動作する基本原理
14:00〜14:40

『トランジスタ』が動く仕組みについて学ぶ
p型トランジスタとn型トランジスタ、そしてCMOSについて

ナノフロント研究所(元ソニー(株) 半導体プロセス・エンジニア)

佐藤 淳一 (さとう じゅんいち) (14:00〜14:40担当)

第3部 特別講座
(文系出身者のための)紙芝居で見る半導体製造プロセス・フロー

14:40〜18:00

トランジスタ形成プロセス『フロントエンド・プロセス』
主要6ブロックを紙芝居で見る/素子分離、ウェル形成、ゲート形成、
サイドウォールとソース/ドレイン形成、シリサイド化、Wプラグ形成

 20分間 コーヒーブレイク

多層配線形成プロセス『バックエンド・プロセス』
加工してから埋め込むAl配線と埋め込んでから加工するCu/low-k配線

後工程プロセス『パッケージング・プロセス』
パッケージングの役割りと組立工程

半導体産業新聞

松下 晋司 (まつした しんじ) (14:40〜18:00担当)



総合基本コース 2007年8月30日(木)

09:30〜10:30

『半導体とは?』どんな電子デバイス
半導体が動作する基本原理/記憶すること&演算すること

NECエレクトロニクス(株) 先端デバイス開発事業部 先端CMOS開発グループ
グループマネージャー

今井 清隆 (いまい きよたか)

10:30〜11:30

パターン(回路)原画を描いた『マスク製造プロセス』
すべての微細加工の原画「マスク」とリソグラフィを駆使しウェハに転写

大日本印刷(株) 電子デバイス事業部 電子デバイス研究所 主席研究員

法元 盛久 (ほうが もりひさ)

11:30〜12:40

半導体『トランジスタ』はどのようにして作る
(前工程:フロントエンド・プロセス)

90nmノード対応のトランジスタ形成、そのプロセス技術と必要な装置・材料

NECエレクトロニクス(株) 先端デバイス開発事業部 先端CMOS開発グループ
グループマネージャー

今井 清隆 (いまい きよたか)

12:40〜13:30  ランチ+名刺交換会
13:30〜14:30

半導体『多層配線』はどのようにして作る
(前工程:バックエンド・プロセス)

Al多層配線とCu/low-k多層配線 そのプロセス技術と必要な装置・材料

(株)ルネサス テクノロジ 生産本部 ウエハプロセス技術統括部 プロセス開発部
配線モジュール開発グループ 主任技師

藤澤 雅彦 (ふじさわ まさひこ)

14:30〜15:20

半導体『パッケージ』はどのようにして作る
(後工程:パッケージング・プロセス)

パッケージング・プロセスと必要な装置・材料

沖電気工業(株) 半導体ビジネスグループ 新規事業推進
シニアプロフェッショナル

小林 治文 (こばやし はるふみ)

15:20〜15:40  コーヒーブレイク
15:40〜16:30

半導体デバイスの進化を担う最新パッケージング技術
さらなる高集積化・高機能化・高性能化を確保するためにパッケージ形態が変貌する

沖電気工業(株) 半導体ビジネスグループ 新規事業推進
シニアプロフェッショナル

小林 治文 (こばやし はるふみ)

16:30〜17:30

これが半導体工場のクリーンルームだ
半導体製造における最大の大敵/異物・汚染からウェハを守る

三菱電機(株) パワーデバイス製作所 パワーデバイス品質保証部

園田 信夫 (そのだ のぶお)


*講演タイトル、講演者は都合により変更する事がありますので、ご了承ください。
・本講座は2007年4月23日/24日開催の「ビギナーのための半導体講座」再開催のご要望にお応えして開催しました。
・半導体産業新聞サマースクール2007 Part. I 「『太陽電池』の特性と製造プロセス/基礎講座」は、2007年8月22日(水)に開催します。
・半導体産業新聞サマースクール2007 Part. II 「ビギナーのためのFPD/夏講座」は、2007年8月27日(月)/28日(火)に開催します。

■ イベント概要

主催:
半導体産業新聞
コード:
G78
日時:
2007年8月29日(水) 09:30〜18:00 (基礎コース)
2007年8月30日(木) 09:30〜17:30 (総合基本コース)
会場:
東京・御茶ノ水 明神会館(神田明神境内)
参加費:
6万3,000円/1名(テキスト、食事・飲み物、消費税込)

■ お問い合わせ先

○ 産業タイムズ社 事業部
   FAX: 03-3834-5170  TEL: 03-3834-2581
   E-mail: scnw@sangyo-times.co.jp





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