第1部 主要プロセス・装置の基礎講座
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09:30〜10:30

半導体を作り込むためのベースとなる「シリコン・ウェハ基板」とは
シリコン・ウェハの役割りと作り方&さらなる大口径化のなぜ

元スーパーシリコン研究所 所長

高田 清司 (たかだ きよし) (09:30〜10:30担当)

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10:30〜12:00

回路図を焼き付ける『リソグラフィ工程』の仕組みと様々な手法
マスク・レジスト・現像・アッシングも踏まえて

熱によって薄膜を形成する『熱処理プロセス』
大量に処理するバッチ方式とウェハ一枚づつ処理する枚葉方式

リンやボロンといった不純物を注入する 『イオン注入・アニール工程』
電気を通さないシリコン・ウェハに特定の電気特性を持たせる

平坦面にも凹凸部にも膜を埋め込んでいく『成膜プロセス』
雪が降るように堆積するCVD(Chemical Vapor Deposition)方式と 無数の粒子があられのように降り積もるスパッタリング方式

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12:00〜12:50 ランチ+名刺交換会
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12:50〜14:00

半導体製造プロセスの有能な細工師『エッチング工程』
微細な形状も自在に加工する

雑巾で床を拭くように『平坦化工程』でウェハ表面を研磨
リソグラフィのためにウェハ表面は常に凹凸なし

敏感で繊細なお肌のために 『洗浄プロセス』でウェハは繰り返し入浴
半導体製造の大敵:ゴミ/超微細なゴミも徹底的に排除する

ナノフロント研究所(元ソニー(株) 半導体プロセス・エンジニア)

佐藤 淳一 (さとう じゅんいち) (10:30〜14:00担当)

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第2部 半導体デバイスが動作する基本原理
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14:00〜14:40

『トランジスタ』が動く仕組みについて学ぶ
p型トランジスタとn型トランジスタ、そしてCMOSについて

ナノフロント研究所(元ソニー(株) 半導体プロセス・エンジニア)

佐藤 淳一 (さとう じゅんいち) (14:00〜14:40担当)

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第3部 特別講座 (文系出身者のための)紙芝居で見る半導体製造プロセス・フロー
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14:40〜18:00

トランジスタ形成プロセス『フロントエンド・プロセス』
主要6ブロックを紙芝居で見る/素子分離、ウェル形成、ゲート形成、 サイドウォールとソース/ドレイン形成、シリサイド化、Wプラグ形成

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コーヒーブレイク 15分ないし20分間
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多層配線形成プロセス『バックエンド・プロセス』
加工してから埋め込むAl配線と埋め込んでから加工するCu/low-k配線

後工程プロセス『パッケージング・プロセス』
パッケージングの役割りと組立工程

半導体産業新聞

松下 晋司 (まつした しんじ) (14:40〜18:00担当)

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09:30〜10:30

『半導体とは?』どんな電子デバイス
半導体が動作する基本原理/記憶すること&演算すること

NECエレクトロニクス(株) 先端デバイス開発事業部 先端CMOS開発グループ グループマネージャー

今井 清隆 (いまい きよたか)

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10:30〜11:30

パターン(回路)原画を描いた『マスク製造プロセス』
すべての微細加工は原画「マスク」とリソグラフィを駆使しウェハに転写

大日本印刷(株) 電子デバイス事業部 電子デバイス研究所 主席研究員

法元 盛久 (ほうが もりひさ)

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11:30〜12:40

半導体『トランジスタ』はどのようにして作る (前工程:フロントエンド・プロセス)
90nmノード対応のトランジスタ形成、そのプロセス技術と必要な装置・材料

NECエレクトロニクス(株) 先端デバイス開発事業部 先端CMOS開発グループ グループマネージャー

今井 清隆 (いまい きよたか)

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12:40〜13:30 ランチ+名刺交換会
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13:30〜14:30

半導体『多層配線』はどのようにして作る (前工程:バックエンド・プロセス)
Al多層配線とCu/low-k多層配線 そのプロセス技術と必要な装置・材料

(株)ルネサス テクノロジ 生産本部 ウエハプロセス技術統括部 プロセス開発部 配線モジュール開発グループ 主任技師

藤澤 雅彦 (ふじさわ まさひこ)

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14:30〜15:20

半導体『パッケージ』はどのようにして作る (後工程:パッケージング・プロセス)
パッケージング・プロセスと必要な装置・材料

沖電気工業(株) 半導体ビジネスグループ 新規事業推進 シニアプロフェッショナル

小林 治文 (こばやし はるふみ)

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15:20〜15:40 コーヒーブレイク
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15:40〜16:30

半導体デバイスの進化を担う最新パッケージング技術
さらなる高集積化・高機能化・高性能化を確保するためにパッケージ形態が変貌する

沖電気工業(株) 半導体ビジネスグループ 新規事業推進 シニアプロフェッショナル

小林 治文 (こばやし はるふみ)

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16:30〜17:30

これが半導体工場のクリーンルームだ
半導体製造における最大の大敵/異物・汚染からウェハを守る

三菱電機(株) パワーデバイス製作所 品質保証部

園田 信夫 (そのだ のぶお)

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