『太陽電池』製造用ガスプロセスでの活用と特性、市場動向をめぐって

『太陽電池』製造用ガス

プロセスでの活用と特性、市場動向をめぐって

2009年6月17日(水) 13：00～17：30
於明神会館（東京・御茶ノ水）

多数のご参加、ありがとうございました。

　テクニカル倶楽部のガス・シリーズも今回が3回目。これまでの参加者の方々からのアンケートで、もっとも要望の高かった「『太陽電池』製造用ガス」をクローズアップします。
　プロセス＆装置の視点からは、結晶系／薄膜系を例に、その製造プロセス・フローを追い掛けながら、使用する各種ガスを整理します。装置面ではメインのCVD装置を取り上げ、半導体用およびFPD（Flat Panel Display）用と比較し、太陽電池用途での特性を探ります。ガス特性の視点からは、その危険性に焦点を当て、取り扱いの注意点を交え解説を行います。そして、今回は(株)ガスレビュー／取締役・編集長の林氏を招き、マーケット動向についても探っていきます。
　最先端を追求するのではなく、太陽電池製造用ガスの全体像を包括的にご理解いただくための手段として、ぜひ同セミナーにご参加ください。

■ 講演内容

13：00～14：10

マーケット
「太陽電池」製造用ガスの市場動向
結晶系／薄膜系／化合物系のガス市場

　太陽電池は結晶系、薄膜系、化合物系のいずれの分野においてもガスを利用します。それぞれのプロセスでどの様なガスが使用されているかを整理した上で、ガスメーカー、ガスサプライヤー、ガス関連機器・システムメーカーの動向及び市場性に焦点を当てます。また、モノシランの資源問題やアルゴン、レアガスなどのソースが抱える供給面での課題を取り上げます。

講師：林佳史　（はやしよしふみ）
(株)ガスレビュー　取締役編集長　

14：10～15：40

プロセス・フロー＆装置
ガスから見た製造プロセス・フローとCVD装置
CVD装置は半導体用／FPD用と比較して

　ここでは製造プロセス・フローの流れを追いながら、使用するガスを整理します。
　製造プロセス・フローは結晶系と薄膜系を例にします。
　講演の後半は、CVD装置をクローズアップします。CVDの原理も含めて、半導体用CVD装置とFPD用CVD装置を比較しながら、太陽電池用CVD装置の特長を探ります。装置比較の焦点は大きく二つで、(1)ライン構成・搬送系も含んだ装置構造の違い（ハードの視点から）、(2)成膜条件とプロセス・レシピ、そしてガス条件の違い（ソフトの視点から）を探ります。

講師：佐藤淳一　（さとうじゅんいち）
ナノフロント研究所　代表　

15：40～16：00　　コーヒーブレイク

16：00～17：30

特性
「太陽電池」製造用ガスの特性
主要ガスの危険性（毒性・爆発性など）と取り扱い

　セミナーの最後は、太陽電池製造で使用する、主なガスの特性と取り扱いについて報告します。ここで言うガス特性とは、一般ガスと特殊材料ガスの持つ危険性（燃焼、爆発、被毒、腐食、窒息）に焦点を当てます。また、少量の使用ではあるが、危険性の高いガスについても言及します。
　特にモノシランのように大量に使用し、かつ、爆発、火災の原因になる自燃性については、実験データや現場写真を可能な限り使い、取り扱いの注意点を示唆します。

講師：金子晃治　（かねここうじ）
大陽日酸エンジニアリング(株)　技監　

＊講演タイトル、講演者は都合により変更することがあります。ご了承下さい。

■ イベント概要

主催：	半導体産業新聞
コード：	H62
日時：	2009年6月17日（水） 13：00～17：30
会場：	東京・御茶ノ水　明神会館（神田明神境内）
参加費：	3万1,500円／1名（テキスト、飲み物付、消費税込）

■ お問い合わせ先

○ 産業タイムズ社　事業部
　　　FAX: 03-5835-5494　　TEL: 03-5835-5894
　　　E-mail: scnw@sangyo-times.co.jp

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