芝浦メカトロニクス（株）（東京都品川区南大井6-22-7、Tel.03-5764-5111）は、（株）スーパーシリコン研究所（群馬県安中市）と共同で400mmウエハー用の本格的装置としては業界初の洗浄装置を開発、同研究所に納入した。
　新製品は、枚葉式の採用により洗浄性能と均一性を改善、東芝生産技術研究所との共同開発によるメガヘルツ帯域の超音波を利用した薬液対応メガソニックノズルを搭載し微小パーティクルの除去性能も向上した。各処理ユニットのモジュール化によるコンパクト設計を実現している。
　また、オゾン水などの機能水や希フッ酸洗浄との組み合わせによる従来の一般的な洗浄方法であるRCA洗浄方式と同等の洗浄性能が得られるほか、常温洗浄が可能なためエネルギーコストや排水処理コストの低減が可能になっている。
　スーパーシリコン研究所は、400mmウエハーの研究開発に向け政府系機関の基盤技術研究促進センターと国内ウエハーメーカー7社が出資し設立された官民共同企業。4Gデバイス用のウエハー表面清浄度を製造時パーティクル0.04μm以下、金属不純物10の8乗atoms／平方センチメートルに設定しており、同研究所での実験結果をベースに開発した。
　一方、芝浦メカトロニクスは、液晶基板洗浄装置での実績と要素技術を背景に枚葉式洗浄装置で半導体製造装置市場に参入、CMP後洗浄装置やウエハーメーカー向け300mm対応装置を製造販売している。また、デバイス量産用の300mm対応枚葉式洗浄装置も開発を完了している。

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