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| 1999年12月22日 水曜日 | |||
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韓国のサムスンと現代、2000年大規模投資断行！ 設備・R＆Dに両社15億ドル！ DRAM工程0.18μm以下への世代交替推進 韓国半導体業界における双頭馬車であるサムスン電子と現代電子の2000年度設備およびR＆D投資規模は、総額30億ドルに至る見通し。 東芝と大日本印刷、フォトマスクで合弁会社 生産は東芝の内製用設備 （株）東芝と大日本印刷（株）は半導体フォトマスク事業で提携した。2000年3月に合弁会社を設立し、設備は東芝の内製用装置を継続して活用、最初の3年間は全量を東芝向けに供給する。0.13μmでは共同開発を行い、将来は外販や技術の標準化も目指す。 |
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