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| 2001年4月25日 水曜日 | |||
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 0.18μm以下対応最先端マスクの受注急拡大 2000年フォトマスク市場は3割増の2600億円前後 関連装置、材料の開発加速 0.18μm以下に対応する最先端フォトマスクの需要が急拡大している。昨年から0.18μmでの半導体製品の量産が本格化すると同時に0.13μmプロセス開発に向けたフォトマスクの引き合いが増えている。フォトマスクは、露光装置やレジストとともにリソグラフィーの中核を担う技術分野であり、微細化の進展に伴ってその重要性がますますクローズアップされている。 2000年のフォトマスクの世界市場は、前年比三割増の2600億円前後に達したと推定される。描画装置や検査装置といった主要な加工装置に加え、修正装置、計測機などの関連装置、ブランクスなどの材料を含めると2000年ベースで4000億円規模の産業規模に膨れ上がる。 |
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