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| 2001年8月8日 水曜日 | |||
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 MIRAIプロジェクトが開発概要を発表 産官学連携で70〜50nm技術を確立 8月1日から本格始動 「半導体MIRAIプロジェクト」（廣瀬全孝プロジェクトリーダー）の概要が、このほど正式に発表された。2001年度〜2007年度の7年間（前期3年、後期4年）に渡って、次世代の半導体プロセスに不可欠な絶縁材料の研究開発とこれを実用化するためのプロセス技術の開発などを実施。70〜50nmのデバイス技術をターゲットに産官学連携の新たな取り組みが本格始動する。 |
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