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| 2004年7月21日 水曜日 | |||
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 日本産業ガス協会、04年半導体用特殊ガスは5〜7％成長 数量伸びるも価格下落へ 03年は前年比7％増の405億円 日本産業ガス協会 特殊ガス専門委員会（東京都中央区京橋3-1-1、Tel.03-3231-9898、大陽東洋酸素内）は、国内における03年半導体用特殊材料ガスの市場規模を発表した。それによると、03年は405億円となり、02年から7％の増加となった。 同統計は、国内の半導体、液晶ディスプレー、太陽電池など向けに出荷された特殊材料ガスの販売を集計したもの。日本メーカーおよび海外メーカーの輸入を含む国内需要金額で、輸出は含まれていない。 各ガスの需要量で、特に伸びたのがNH3（アンモニア）、NF3（三フッ化窒素）、N2O（亜酸化窒素）など。NH3は化合物半導体のGaN向けで需要が急増し、前年比34％増となった。NF3は液晶TFTディスプレーや半導体プロセスにおけるチャンバークリーニングで大幅に増加、前年比30％のプラス成長となった。液晶TFTディスプレーでは携帯電話やデジタルカメラに採用されるようになり、需要がさらに拡大した。 N2Oは半導体向けの酸化膜形成プロセスで需要が拡大し、同30％の増加となった。 |
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