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| 2006年12月6日 水曜日 | |||
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 国別半導体設備投資で日本が4年連続トップ 65nm〜90nm中心に最先端の大型投資活発 注目される東芝、エルピーダの巨大工場用地物色 半導体産業新聞は先ごろ、国内の半導体前工程工場の新増設計画を集計した。それによれば、全国各エリアに17件の大型プランがリストアップされており、日本勢の投資意欲は、なお衰えていないことがよくわかる。 国内半導体メーカーの収益性が著しく低いことは、世界的に見ても明らかだ。実際のところ、生産の伸び率もまた、世界水準に比べて低くなっており、日本勢を取り巻く状勢は厳しい。にもかかわらず、次世代設備に対する積極性はまったく衰えていない。国別半導体設備投資では、2006年についても1兆3000億円以上の投資が確実であり、国別投資では4年連続で世界トップの水準を維持していることになるのだ。 これはひとえに、次世代と言われる45nm〜65nmのプロセスで先行することが、ニッポン半導体復興の最大要因と見ているからだ。また、これまで前世代のプロセスルールで活動していた中堅メーカーも、いよいよ90nmプロセスに突入することで、大幅なコストダウンを図ろうという意欲が見て取れる。いわば、ナノプロセスで勝つことは絶対条件と考えているわけで、これはメモリーに限らず、システムLSIやマイコンの分野においても最先端設備の導入が進む。 現在、何と言っても注目を浴びているのは、東芝とエルピーダメモリの新工場用地選定の動きだ。東芝は、06年度からの3年間で2兆円の設備投資を断行するとアナウンスしており、このうち1兆円強を半導体部門に注ぎ込むという。しかも、投資の7割近くをNANDフラッシュメモリーに注ぎ込むと言われており、そのほかでは世界第1位となっているディスクリート半導体に集中投資する。ロジック部門については、かなり投資を後退させる意向であり、いわば東芝は国内有力メーカーの中ではっきりと総花的戦略を捨て、選択と集中を進めることを決めた。  |
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